chemical vapor deposition cvd coating furnace (16) 온라인 제조사
공정온도((℃): 700-1050
코팅의 종류: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
전체 전력: 약 40/50/60/80kW
코팅 기판: 금속, 세라믹, 유리 등
공정온도((℃): 700-1050
코팅의 종류: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
도포 방법: 화학기상증착(CVD)
전체 전력: 약 40/50/60/80kW
유효공간(mm): 1000*1000*1500
난방력(KVA): 300
공정온도((℃): 700-1050
코팅의 종류: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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