Temp.of deposition((℃): 900-1050
Process pressure(mbar): 100-300
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
전구체 및 공정 가스: TICL4 、 ALCL3 、 CH3CN 、 H2 、 N2 、 AR 、 CH4 、 CO 、 CO2 、 HCL 、 H2S
코팅 기판: 금속, 세라믹, 유리 등
도포 방법: 화학기상증착(CVD)
전체 전력: 약 40/50/60/80kW
전구체 및 공정 가스: TICL4 、 ALCL3 、 CH3CN 、 H2 、 N2 、 AR 、 CH4 、 CO 、 CO2 、 HCL 、 H2S
코팅 장비 크기: 사용자 정의 가능
전체 전력: 약 40/50/60/80kW
코팅 기판: 금속, 세라믹, 유리 등
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
전구체 및 공정 가스: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
공정온도((℃): 700-1050
코팅의 종류: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
공정온도((℃): 700-1050
코팅의 종류: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
공정온도((℃): 700-1050
코팅의 종류: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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