TaC 코팅 제조 기술의 혁신 및 응용

2025-08-25

TaC로 코팅된 그래피트는 순수한 그래피트에 비해 화학적 관화 저항력이 우수하며 2600°C까지의 온도에서 안정적으로 작동 할 수 있습니다.그것은 세 번째 세대의 반도체 싱글 크리스탈 성장과 웨이퍼 에피타시얼 성장을위한 가장 높은 성능의 코팅입니다.. TaC 코팅은 결정 가장자리의 결함을 해결하고 결정 성장 품질을 개선하여 "빠른, 두꺼운, 큰"성장을 달성하기위한 핵심 기술 중 하나입니다.

현재 화학 증기 퇴적 (CVD) 은 반도체 응용 용도로 TaC 코팅을 준비하는 가장 일반적인 방법입니다. the German Institute for Semiconductors and the Japanese TaC Research & Industrialization Organization have demonstrated significant advantages over CVD TaC coatings in the growth of GaN single crystals and PVT growth of SiC single crystals.

중국이 독립적으로 개발한 다단계 TaC 코팅 기술은 기술적 사양을 충족시키면서도 CVD 방식에 비해 TaC 코팅의 비용을 크게 줄일 수 있습니다.또한 높은 결합 강도와 같은 장점을 제공합니다, 낮은 열 스트레스, 우수한 밀폐, 고온 안정성.

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